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2013年2月12日の記事

中国知的財産権制度2013/02/12

中国知的財産権制度

1. 特許制度(中華人民共和国専利法)

(1) 保護の対象

 保護の対象は発明創造(「発明」、「実用新案」、「意匠」)(第2条)

① 発明

 製品、方法又はその改善に対して行われる新たな技術方案(第2条)

② 実用新案

 製品の形状、構造又はその結合に対して行われ、実用に適した新たな技術方案(第2条)

③ 意匠

 製品の形状、図案又はその結合及び色彩と形状、図案の結合に対して行われ、優れた外観を備え、かつ工業への応用に適した新たな設計(第2条)

(2) 出願

① 発明又は実用新案の特許の出願(第26条)

② 意匠特許の出願(第27条)

(3) 要件

① 発明、実用新案

 新規性、創造性、実用性(第22条)

② 意匠

 既存の設計に属さない、出願日以前に出願されておらず、出願日以降公開された特許文書に記載されていない(第23条)

(4) 審査

① 発明特許の出願は実態審査(第39条)

② 実用新案及び意匠の特許出願は予備審査のみ(第40条)

(5) 存続期間

① 発明特許権は出願日から20年(第42条)

② 実用新案特許権、意匠特許権は出願日から10年(第42条)

2. 商標制度(商標法)

(1) 保護の対象

 商品商標、サービスマーク、団体商標、証明商標(第3条)

(2) 出願(第4~第8条)

(3) 要件

① 商標登録の要件(第9条、第11条)

② 不登録事由(第10条)

③ その他(第12条、第13条、第31条、第46条、等)

(4) 存続期間

 登録の許可があった日から10年(第37条)、更新可(第38条)

3. 考察

(1) 中国は投資先としても市場としても極めて重要な国です。進出に際しては、特許、意匠、実用新案、商標の出願・登録が望まれます。

(2) 費用的に有利であって実態審査を伴わない実用新案、意匠の出願からはじめてはと考えます。

(3) 当事務所でお願いしている中国代理人は、親切、且つ、迅速に対応してくれます。

(4) 新たな情報は随時補充していきます。

参考資料:特許庁ホームページ(外国産業財産権制度情報)

(2013年02月12日)

ブログ2013年2月|09:55:25

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